Il sistema PVD industriale multi-arco utilizza la deposizione fisica di vapore ad arco catodico ad alta-ionizzazione per depositare rivestimenti duri stechiometrici densi (come TiN, TiAlN, CrN e DLC) su substrati metallici. Progettato per centri di rivestimento a contratto ad alto-volume e linee di produzione vincolate, questo sistema ottimizza la resistenza all'usura, la riduzione dell'attrito e la stabilità termica per i componenti di precisione.
Specifiche tecniche
|
Parametro |
Gamma di specifiche |
|
Dimensioni della camera |
Configurazioni personalizzate (diametro. 800 x 1.000 mm fino a diametro. 1500 x 1.500 mm, acciaio inossidabile 304/316L) |
|
Massima pressione del vuoto |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo Molecular & Roots Pump configuration) |
|
Pressione di vuoto di lavoro |
Da 0,1 a 3,0 Pa (controllato tramite MFC digitali) |
|
Alimentazione catodica |
Arco CC: 100 A - 200 A; Bias pulsato: regolabile da 0 a -1000 V |
|
Rotazione del supporto del substrato |
Rotazione planetaria, 0 - 10 giri/min, capacità di carico fino a 500 kg |
|
Sistema di riscaldamento |
Riscaldatori radianti in acciaio inossidabile, temperatura massima 600 gradi C (+/- 5 gradi C uniformità) |
|
Controllo del processo |
PLC + PC industriale, esecuzione automatizzata delle ricette, registrazione dei dati-in tempo reale |
|
Requisiti di utilità |
Acqua di raffreddamento: 0.2 - 0.3 MPa, 25 gradi C; Alimentazione: 380 V, trifase, 50/60 Hz |
Caratteristiche principali
Sorgenti dell'arco catodico filtrate:Il filtraggio magnetico riduce al minimo la generazione di macroparticelle (goccioline), ottenendo finiture superficiali più lisce (Ra < 0,1 um).
Configurazione del magnetron sbilanciato in campo chiuso-: Enhances substrate-zone plasma density, achieving film adhesion scratch-test critical load Lc >= 80 N.
Doppia-regolazione del flusso di gas:Controllo con feedback a circuito chiuso-utilizzando manometri capacitivi e MFC ad alta-precisione per gas reattivi (N2, C2H2, O2).
Sorgenti di deposizione modulare:I layout planari e cilindrici intercambiabili consentono un rapido cambio di target per architetture multi-livello.
Configurazione del sistema di vuoto
Pompa per sgrossatura:Supporto meccanico a palette rotanti o vite a secco per eliminare il riflusso dell'olio.
Pompa per alto vuoto: Magnetic levitation turbo molecular pump (>= 3200 L/s) abbinato ad un soffiatore per radici.
Guarnizioni e valvole:Valvole a saracinesca pneumatiche, flange ISO-F/CF con guarnizioni in Viton/metallo; Tasso di perdita dello spettrometro di massa di elio < 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Monitoraggio della pressione:Misuratori combinati di ionizzazione Pirani e catodo freddo.
Compatibilità dei materiali di evaporazione e del substrato
Obiettivi catodici standard:Ti, Al, Cr, TiAl, Zr, Cu, Graphite (purity >= 99.95%).
Materiali del substrato:Carburi cementati (WC-Co), HSS, acciai legati (SKD11, 40Cr), leghe di titanio (Ti-6Al-4V) e acciaio inossidabile (304, 316L).
Pre-trattamento:Richiede lo sgrassaggio a ultrasuoni e l'attacco con ioni di plasma di argon in-situ (bombardamento con Ar+) per eliminare gli ossidi superficiali prima della deposizione.
Applicazioni
Strumenti di taglio e formatura:Frese, frese a creatore e inserti rivestiti con TiAlN/TiN per prolungare la durata dell'utensile del 200% - 400% durante la lavorazione a secco.
Componenti automobilistici:Fasce elastiche, spinotti degli iniettori e punterie rivestite con CrN/DLC per ridurre l'attrito e i graffi sui bordi.
Dispositivi Medici:Viti ortopediche, lame chirurgiche e monconi dentali che utilizzano TiN/ZrN per biocompatibilità e resistenza alla corrosione.
Hardware industriale:Mold cavities and precision gears requiring high surface hardness (>3000 HV).
Personalizzazione
Dimensionamento della camera:Diametri interni su misura e profili di altezza adattati a volumi di lotti specifici o pezzi di grandi dimensioni.
Disposizione del catodo:Da 4 a 12 slot sorgente arco configurabili posizionati simmetricamente per garantire la distribuzione dello spessore entro +/- 8%.
Integrazione dei bias:Integrazione ibrida HPPMS (pulsed magnetron sputtering) ad alta potenza opzionale insieme a sorgenti ad arco catodico standard.
Automazione:Integrazione con bracci di carico automatizzati e sistemi di esecuzione della produzione SCADA.
Controllo di qualità
Ispezione del materiale:Spectrographic analysis verifying raw target metallic purity (>= 99.95%).
Prove strutturali:Verifica dimensionale CMM delle camere e prova di pressione idrostatica dei canali di raffreddamento.
Test di accettazione in fabbrica (FAT):Test di funzionamento a secco continuo di 72-ore-che copre la rotazione meccanica, le curve di svuotamento e la stabilità termica.
Verifica del rivestimento:Coupon di prova valutati tramite test di usura pin-on-disco, indentazione Rockwell e analisi dello spessore FESEM-sezione trasversale.
Installazione e supporto tecnico
Preparazione del sito:Documentazione tecnica dettagliata per i limiti di carico del pavimento, le portate dell'acqua di raffreddamento e i requisiti delle sbarre elettriche.
Messa in servizio:Installazione in-luogo, calibrazione del vuoto e consegna delle ricette del processo di base da parte dei tecnici sul campo.
Formazione degli operatori:Programmi strutturati che coprono la manutenzione ordinaria, la sostituzione dei target, la ricerca delle perdite e la risoluzione dei problemi di base del PLC.
Supporto del ciclo di vita:Integrazione dell'interfaccia diagnostica remota per la registrazione dei parametri in tempo reale-e un rapido isolamento degli errori.
Domande frequenti
D: Qual è il tasso di utilizzo tipico del target del catodo?
R: I catodi ad arco planare raggiungono tipicamente un utilizzo dal 45% al 60% a seconda del profilo di erosione magnetica.
D: In che modo il sistema mitiga le macroparticelle?
R: I campi magnetici direzionali e i condotti opzionali ad arco catodico filtrato (FCVA) intrappolano le macroparticelle non unite prima di raggiungere il substrato.
D: Qual è il tempo medio del ciclo di processo?
R: La deposizione standard di TiAlN richiede 3 - 4 ore, comprendendo pompaggio-, riscaldamento, incisione, deposizione e raffreddamento per una pellicola da 3 - 5 um.
D: Sono necessari riscaldatori ausiliari all'interno della camera?
R: Sì. I riscaldatori radianti preriscaldano i substrati a 350 gradi C - 550 gradi C per rilasciare umidità e garantire l'adesione del rivestimento.
Etichetta sexy: apparecchiature a film sottile pvd multi-arco, Cina produttori di apparecchiature a film sottile pvd multi-arco, fornitori, fabbrica

