Sistema di evaporazione a film sottile-assistita da ioni

Il sistema a film sottile di evaporazione assistita da ioni (IAE) integra la deposizione fisica in fase di vapore (PVD) con il bombardamento energetico di fasci ionici. Durante l'evaporazione termica o con fascio di elettroni-, una sorgente ionica ausiliaria Kaufman o End-Hall dirige gli ioni di argon o di gas reattivo sul substrato in crescita. Questo trasferimento di quantità di moto migliora la mobilità dell'atomo, elimina i vuoti colonnari e produce film densi e stabili all'umidità-con indici di rifrazione quasi-di massa e deriva termica minima.

Progettato per ambienti di produzione e ricerca che richiedono un controllo rigoroso sulle costanti ottiche e sullo stress residuo, questo sistema è compatibile con cannoni a fascio elettronico multi-tascabili, evaporatori a resistenza e dispositivi di substrato personalizzabili.

Trasferimento del momento ionico in tempo reale-:Il bombardamento ionico-assistito densifica le microstrutture, sopprimendo l'assorbimento di umidità ambientale e lo spostamento dell'indice di rifrazione. L'analisi SEM-sezionale verifica la formazione di vuoti colonnari pari a zero negli stack di ossidi.

Regolazione della tariffa-a circuito chiuso:Gli alimentatori controllati da PID-si interfacciano direttamente con i sensori multi-microbilancia a cristalli di quarzo (QCM) multicanale per mantenere la stabilità del tasso di deposizione entro +/- 0.1 Å/s.

Gestione termica a basso difetto:I gruppi di riscaldatori a radiazione consentono la pre-pulizia del substrato e la ricottura in-situ fino a 400 gradi con uniformità di +/- 2.5 gradi.

Manutenzione-rapida:Le flange della sorgente ad accesso rapido-e i gruppi modulari-della griglia ionica consentono una manutenzione interna completa e il rifornimento target in meno di 2 ore, riducendo al minimo i tempi di inattività non programmati delle camere bianche.

Pila di pompaggio:Pompa di supporto (Roots + pala rotativa) abbinata a pompe turbomolecolari ad alta-portata (capacità di 1600 L/s) o criopompe (1500 L/s) progettate per gestire carichi di gas reattivi durante processi IAE ad alta-velocità.

Valvole e guarnizioni:Le valvole a saracinesca pneumatiche e le doppie guarnizioni in Viton/metallo-isolano la camera di processo dalle linee di sgrossatura, impedendo il riflusso degli idrocarburi.

Interblocchi a pressione:La sequenza PLC automatizzata monitora la pressione della linea principale, la portata dell'acqua di raffreddamento e la fornitura di aria compressa prima dell'attivazione della pistola a fascio E- ad alta tensione.

Materiali di evaporazione:Ossidi (TiO2, ZrO2, SiO2, Al2O3), fluoruri (MgF2) e metalli ad elevata-purezza (Au, Ag, Al, Ti).

Materiali del substrato:Vetro ottico (BK7, silice fusa), wafer di silicio (fino a 300 mm), semiconduttori composti (GaAs, InP) e ceramica/metalli.

Fissaggio:Supporti per substrati in alluminio o acciaio inossidabile lavorati su misura-progettati per la conduttività termica e la generazione minima di particelle durante la rotazione planetaria.

Serie-O (ottica di precisione):Ottimizzato per filtri interferenziali ottici multi-strato, specchi laser e rivestimenti AR. Integrato con monitoraggio ottico a banda larga (OMS) e rotazione planetaria ad alta-densità per garantire uno spostamento spettrale < 0,1% in caso di variazioni dell'umidità ambientale.

Serie-S (imballaggi e sensori per semiconduttori):Progettato per strati iniziali di metallo a bassa-temperatura e passivazione dielettrica su wafer di silicio da 200 mm/300 mm con compatibilità con blocco di-carico libero-di particelle.

Serie-R (R&S/Ricerca sui materiali avanzati):Architettura della camera altamente flessibile che supporta sorgenti ioniche doppie e interscambio rapido-del deck della sorgente per laboratori universitari e centri di ricerca e sviluppo aziendali.

Dimensioni della camera:Volumi interni personalizzati che vanno da 600 mm a 1200 mm di diametro.

Livelli di automazione:Ricette PLC semi-automatiche o ricette completamente automatiche controllate tramite software SCADA touch screen industriale-con Audit Trail (opzioni conformi a 21 CFR Parte 11 disponibili per la produzione medicale/di sensori).

Porte diagnostiche:Flange NW/CF aggiuntive assegnate per l'ellissometria spettroscopica in-situ o per gli analizzatori di gas residui (RGA).

Rilevamento perdite:Ogni camera a vuoto viene sottoposta a test di tenuta con spettrometro di massa ad elio fino a una soglia di < 1 x 10^-10 Pa*m^3/s prima del rilascio in fabbrica.

Convalida microstrutturale:Il QA standard include l'ispezione opzionale dei campioni SEM trasversale-sezionale per verificare la densità della pellicola e l'uniformità strutturale.

Sicurezza elettrica:Test di resistenza all'isolamento ad alta-tensione, continuità di messa a terra e risposta dell'interblocco eseguiti secondo gli standard CE/SEMI S2.

Test di accettazione in fabbrica (FAT):Completato presso il nostro stabilimento di produzione; i clienti ricevono un rapporto di esecuzione di base che verifica la pressione di base, la stabilità del tasso di deposizione e l'emissione di corrente ionica.

Test di accettazione in sito (SAT):Gli ingegneri in loco-supervisionano le manovre, i collegamenti alle utenze (acqua di raffreddamento, energia elettrica, aria compressa, gas di processo) e le operazioni di calibrazione.

Documentazione:Manuali di assistenza completi includono schemi elettrici, etichette logiche di origine PLC, schemi di tubazioni del vuoto ed elenchi di parti di consumo.