Sistema a film sottile di evaporazione ad arco

Sistema a film sottile di evaporazione ad arco

Dettagli
Il sistema a film sottile per evaporazione ad arco catodico industriale è progettato per la deposizione ad alta- velocità di rivestimenti composti metallici, leghe e ceramici densi e fortemente aderenti. Funzionando tramite una scarica ad arco a bassa-tensione e alta-corrente su bersagli catodici solidi, il sistema vaporizza il materiale direttamente in uno stato di plasma altamente ionizzato (rapporto di ioni metallici del 40% - 80%). Ciò spinge gli ioni energetici nell'interfaccia del substrato, producendo un'adesione del rivestimento superiore rispetto all'evaporazione termica standard o ai metodi convenzionali di sputtering.
Classificazione del prodotto
Attrezzatura per film sottile di evaporazione ad arco
 
Invia la tua richiesta
Descrizione
Parametri tecnici

Il sistema a film sottile per evaporazione ad arco catodico industriale è progettato per la deposizione ad alta- velocità di rivestimenti composti metallici, leghe e ceramici densi e fortemente aderenti. Funzionando tramite una scarica ad arco a bassa-tensione e alta-corrente su bersagli catodici solidi, il sistema vaporizza il materiale direttamente in uno stato di plasma altamente ionizzato (rapporto di ioni metallici del 40% - 80%). Ciò spinge gli ioni energetici nell'interfaccia del substrato, producendo un'adesione del rivestimento superiore rispetto all'evaporazione termica standard o ai metodi convenzionali di sputtering.


Realizzato per ambienti di produzione e centri di ricerca sui materiali avanzati, il sistema deposita strati tribologici duri e resistenti all'usura-come TiN, TiAlN, CrN e AlCrN-su utensili da taglio, stampi di formatura e componenti meccanici di precisione. La camera a vuoto modulare consente configurazioni scalabili multi-catodo e rotazione planetaria automatizzata a 3-assi per garantire la ripetibilità da batch-a batch.

 

Specifiche tecniche

 

Parametro tecnico

Intervallo/valore delle specifiche

Massima pressione del vuoto

<= 5.0 x 10^-4 Pa (achieved via turbomolecular and rotary/dry backing pump combination)

Dimensioni della camera

Diametro interno personalizzato (modelli industriali standard: da dia. 600 mm a dia. 1200 mm)

Materiale della camera

Acciaio inossidabile SUS304 a doppia parete-con canali elicoidali interni di raffreddamento ad acqua-

Alimentatori ad arco

Generatori ad arco CC: 10 A - 200A regolabile; Disponibili opzioni arco pulsato

Potere di polarizzazione del substrato

Alimentatore con polarizzazione pulsata regolabile da -100 V - -1000V (10kHz - 100kHz)

Sorgenti catodiche

2 - 6 stazioni catodiche direttrici magnetiche intercambiabili- (dia. 85 mm o dia. 100 mm)

Rotazione del substrato

Azionamento di rotazione planetario a 3 assi con controllo della velocità variabile (0 - 10 giri/min)

Potenza connessa totale

45kVA - 120kVA (a seconda del volume della camera e del conteggio delle sorgenti)

Fabbisogno di acqua di raffreddamento

Portata: 15 - 40 m^3/h; Pressione: 0.2 - 0.3 MPa; Temperatura: 18 - 25 gradi C

 

Caratteristiche principali


Tecnologia del catodo di orientamento magnetico-:I campi magnetici-a circuito chiuso spazzano il punto del catodo sulla superficie del bersaglio, aumentando i tassi di utilizzo del bersaglio oltre il 55% ed eliminando la formazione di crateri localizzati sul bersaglio.


Plasma ad alto tasso di ionizzazioneGenera rapporti di ioni metallici fino all'80%, fornendo un'elevata energia cinetica per la crescita di una pellicola densa e una diffusione metallurgica profonda all'interfaccia del substrato.


Deposizione multistrato-programmabile:Il PLC industriale combinato con un'architettura di controllo HMI esegue il sequenziamento automatizzato di gas reattivi (N2, O2, C2H2) per architetture di gradiente funzionale e rivestimento nanostrato.


Incisione al plasma in-situ:Integra il bombardamento di ioni metallici e le fasi di pulizia sbilanciata del magnetron prima della deposizione per rimuovere gli ossidi nativi e i contaminanti superficiali.

 

Configurazione del sistema di vuoto


Il sottosistema del vuoto è progettato per cicli di pompaggio-down rapidi e una pressione operativa stabile con ingresso continuo di gas reattivo:


Fase di sgrossatura e radicazione:Pompa rotativa a palette o a vite a secco ad azionamento diretto- abbinata a un ventilatore Roots, che evacua la camera dalla pressione atmosferica a 10 Pa entro 5 minuti.


Stadio di alto vuoto:Pompa turbomolecolare a levitazione magnetica che fornisce un'elevata velocità di pompaggio volumetrico per vapore acqueo e gas residui, garantendo obiettivi di pressione di base inferiori a 5,0 x 10^-4 Pa.


Valvole e misuratori:Valvole a saracinesca pneumatiche e valvole ad angolo elettro-pneumatiche integrate con-gamma completa di manometri combinati Pirani/Penning per interblocchi di sicurezza automatizzati.


Regolazione della pressione:Feedback del manometro capacitivo a circuito chiuso-collegato a controller di flusso di massa (MFC) ad alta-precisione per stabilizzare la pressione parziale del gas reattivo durante la deposizione reattiva.

 

Compatibilità dei materiali di evaporazione e del substrato


Materiali di destinazione
Metalli puri:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Mo, W, Nb.


Obiettivi in ​​lega:TiAl (50/50, 33/67), TiSi, CrAl.


Carbonio:Bersagli in grafite per la deposizione ibrida di diamante-come carbonio (DLC).


Compatibilità del substrato
Metalli duri/Carburi cementati:WC-Inserti da taglio, frese e utensili per formatura.


Acciai-rapidi (HSS):Maschi, punte elicoidali e brocce.


Acciai tecnici:Acciaio inossidabile, leghe di titanio e superleghe a base di-nichel ad alta temperatura-.


Ceramica strutturale:Componenti di allumina e nitruro di silicio che richiedono modifiche tribologiche.

 

Applicazioni


Strumenti di taglio e lavorazione:Deposizione di rivestimenti TiAlN e AlCrN sugli inserti in metallo duro per aumentare la resistenza all'ossidazione fino a 900 °C e prolungare la durata dell'utensile durante il taglio a secco ad alta-velocità.


Componenti automobilistici:Rivestimento duro di fasce elastiche, alzavalvole e perni di iniezione del carburante per ridurre i coefficienti di attrito limite inferiori a 0,1 e prevenire rigature.


Stampi e matrici:Applicazione di pellicole CrN e TiCN su stampi per iniezione plastica e matrici per stampaggio metalli per prevenire l'usura adesiva e il grippaggio del materiale.


Hardware aerospaziale:Rivestimenti protettivi resistenti all'erosione-su dispositivi di fissaggio di precisione e componenti di compressori che operano in ambienti corrosivi.

 

Opzioni di personalizzazione


Geometria della camera:Design delle porte di caricamento in stile fossa verticale o di caricamento frontale orizzontale-su misura per i layout del negozio-.


Integrazione della sorgente ibrida:Configurazioni a doppia-tecnologia che combinano evaporatori ad arco catodico con catodi UBMS (squilibrati magnetron sputtering) o cannoni ionici lineari.


Livello di automazione:Opzioni di integrazione in fabbrica, tra cui bracci di carico robotizzati automatizzati o montaggio su parete divisoria per camera bianca.


Elettronica di potenza:Generatori di polarizzazione pulsata personalizzati ottimizzati per substrati isolanti o materiali di base-sensibili alla temperatura.

 

Controllo qualità e test di fabbrica


Rilevamento perdite:Il test di tenuta con spettrometro di massa ad elio è stato eseguito su tutte le camere a vuoto e sui cordoni di saldatura, mantenendo i tassi di perdita totali inferiori a 1,0 x 10^-9 Pa*m^3/s.


Verifica della sicurezza elettrica:Test di resistenza di isolamento e continuità di terra conformi alle norme CE e di sicurezza elettrica.


Prova di funzionamento funzionale:Test a ciclo a secco automatizzato continuo di 72 ore delle trasmissioni meccaniche di rotazione, della sequenza delle valvole e degli interblocchi del flusso dell'acqua di raffreddamento.


Verifica del processo (FAT):Deposizione facoltativa di rivestimenti TiN di riferimento sui coupon di prova forniti dal cliente-per verificare l'uniformità dello spessore del film, la nano{1}durezza e la forza di adesione ai graffi prima dell'imballaggio.

 

Installazione e supporto tecnico


Guida alla preparazione del sito:Documentazione tecnica dettagliata della struttura riguardante i limiti di carico del pavimento, i condotti di scarico, le specifiche dell'acqua refrigerata e le prese elettriche fornita 4 settimane prima della consegna.


Messa in funzione-sul posto:I tecnici dell'assistenza sul campo supervisionano il posizionamento meccanico, i collegamenti delle utenze, la sigillatura del vuoto e l'integrazione elettrica.


Formazione sul processo:Formazione pratica-per gli operatori riguardante la manutenzione della camera, i protocolli di sostituzione dei target, la risoluzione dei problemi del vuoto e la gestione delle ricette.


Diagnostica remota:Gateway VPN industriale sicuro integrato nel quadro elettrico per aggiornamenti software remoti, analisi della registrazione dei parametri e diagnosi dei guasti.

 

Domande frequenti

 

D: In che modo il sistema controlla la generazione di macroparticelle (goccioline) intrinseca all'evaporazione dell'arco catodico?

R: Il sistema incorpora campi magnetici direzionali per spostare rapidamente il punto del catodo sulla superficie del bersaglio, riducendo la formazione di macroparticelle. Per le applicazioni che richiedono superfici ultra-lisce (Ra < 0,05 um), è possibile integrare condotti con filtro per macroparticelle (arco catodico filtrato) o configurazioni ibride di sputtering con magnetron.

D: Qual è il tasso di utilizzo tipico del target e come vengono sostituiti i target?

R: Utilizzando la tecnologia dello sterzo magnetico-, l'utilizzo target varia tra il 50% e il 60%. I catodi sono progettati con meccanismi di bloccaggio rapido-, che consentono a un operatore addestrato di completare la sostituzione del target e la pulizia del catodo entro 30 minuti per stazione.

D: Il sistema può eseguire processi automatizzati di rivestimento multi-strato o gradiente?

A: Yes. The industrial PLC and HMI system store up to 100 recipe profiles. It automatically regulates gas mass flow controllers, arc current ramps, and bias voltage pulsing to deposit complex architectural layers (e.g., bonding layer -> gradient layer ->nano-multistrato funzionale) senza intervento dell'operatore.

D: Quali sono i requisiti dei servizi pubblici per un sistema con diametro standard. 900 mm?

R: Un'unità standard con diametro. 900 mm richiede un'alimentazione tri-fase 380 V/480 V (50/60 Hz) con un carico di picco di circa 75 kVA, un'alimentazione di acqua refrigerata a circuito chiuso (25 m^3/h a 0,25 MPa) e un'alimentazione di aria compressa pulita e secca (0,6 MPa) per l'azionamento della valvola pneumatica.

 

Etichetta sexy: Sistema a film sottile per evaporazione ad arco, produttori di sistemi a film sottile per evaporazione ad arco in Cina, fornitori, fabbrica, attrezzatura di misurazione dell'adesione del film sottile, Attrezzatura a film sottile per le applicazioni di incisione, Attrezzatura a film sottile per applicazioni di produzione OLED, Attrezzatura a film sottile per applicazioni di produzione optoelettronica, Attrezzatura a film sottile per applicazioni di produzione elettronica indossabile, attrezzatura ottica a film sottile

Invia la tua richiesta
Contattacise hai qualche domanda

Puoi contattarci tramite telefono, e-mail o tramite il modulo online riportato di seguito. Il nostro specialista ti ricontatterà a breve.

Contatta ora!