Attrezzatura per la deposizione mediante evaporazione dell'arco

Attrezzatura per la deposizione mediante evaporazione dell'arco

Dettagli
Piattaforma di deposizione fisica in fase di vapore (PVD) industriale progettata per la sintesi ad alta-velocità di rivestimenti duri densi,-resistenti all'usura e funzionali. Il mantenimento di una scarica ad arco catodico ad alta-corrente e bassa-tensione su superfici target solide genera un flusso di plasma ionizzato compreso tra l'80% e quasi il 100%.
Classificazione del prodotto
Attrezzatura per film sottile per evaporazione ad arco
 
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Descrizione
Parametri tecnici

Piattaforma di deposizione fisica in fase di vapore (PVD) industriale progettata per la sintesi ad alta-velocità di rivestimenti duri densi,-resistenti all'usura e funzionali. Il mantenimento di una scarica ad arco catodico ad alta-corrente e bassa-tensione su superfici target solide genera un flusso di plasma ionizzato compreso tra l'80% e quasi il 100%.


Combinata con la polarizzazione negativa programmabile del substrato, questa elevata energia cinetica guida la miscelazione interfacciale su scala atomica-, ottenendo un'adesione superiore della pellicola e una porosità colonnare pari a zero. L'architettura della camera supporta configurazioni modulari multi-catodico per la deposizione automatizzata di nanolaminati a-strato singolo, multi-strato-e rivestimenti a gradiente stechiometrico (TiN, TiAlN, CrN, TiCN).

 

Specifiche tecniche

 

Parametro

Specifiche tecniche

Dimensioni della camera

Cilindrico/rettangolare personalizzato (Standard: Phi 800 mm x 1000 mm fino a Phi 2000 mm)

Struttura della camera

Acciaio inossidabile SUS304/316L a doppia-parete con canali dell'acqua di raffreddamento a spirale integrati

Massima pressione del vuoto

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Backed by magnetic levitation turbomolecular + roots-rotary pump stack)

Ciclo di pompaggio-down

Atmosfera fino a 6,0 x 10^-3 Pa pollici<= 15 minutes

Sorgenti ad arco catodico

Da 4 a 8 canali CC indipendenti (porta target Phi 85 mm / Phi 100 mm-raffreddati ad acqua)

Uscita di potenza dell'arco

0-200 A regolabile in continuo per canale; estinzione dell'arco integrata al microsecondo

Fornitura di bias del substrato

Uscita DC pulsata regolabile 0-1000 V (gamma di frequenza 10-50 kHz)

Riscaldamento del substrato

Serie di lampade a infrarossi al quarzo; soffitto operativo 600 gradi (+/- 5 gradi di uniformità)

Movimento del dispositivo

Rotazione planetaria o a doppio asse- tramite passaggi rotanti del fluido magnetico (0-5 giri/min)

Architettura di controllo

PLC + PC industriale (IPC) che eseguono l'esecuzione di ricette in tempo reale-con interblocchi di sicurezza cablati

 

Caratteristiche principali


Alto tasso di ionizzazione:La vaporizzazione catodica diretta converte il flusso metallico in ioni ad alta-densità, promuovendo strutture a grana densa senza micro-vuoti.


Sterzo magnetico attivo:Bobine elettromagnetiche programmabili spostano il punto dell'arco sulle facce del bersaglio, sopprimendo la formazione di crateri localizzati e aumentando l'utilizzo del materiale del bersaglio oltre il 60%.


Controllo dinamico del gas:I controllori di flusso di massa (MFC) a circuito chiuso-regolano l'iniezione di gas reattivo (N2, O2, C2H2) tramite feedback della pressione parziale in tempo reale-.


Sinergia multi-fonte:Le pareti della camera ospitano layout di target ibridi, consentendo la deposizione sequenziale ininterrotta di strati ceramici multi-componente in un unico ciclo di vuoto.

 

Configurazione del sistema di vuoto


Gruppo Sgrossatura e Radici:Pompa rotativa a palette-a trasmissione diretta abbinata a un ventilatore Roots-di cilindrata elevata per gestire carichi di gas elevati durante il trattamento reattivo.


Stadio di alto vuoto:Magnetic levitation turbomolecular pump (>= 1600 L/s) accoppiato tramite una valvola a saracinesca pneumatica ad alta-conduttanza.


Strumentazione per vuoto:Configurazione a doppio manometro Pirani e catodo freddo interbloccati- che monitora gli intervalli di pressione totale dall'atmosfera fino a 10^-6 Pa.


Integrità delle perdite:Le flange sigillate in elastomero-con raffreddamento con camicia-ad acqua mantengono i tassi di perdita del sistema inferiori a 1,0 x 10^-9 Pa*m3/s.

 

Compatibilità dei materiali di evaporazione e del substrato


Materiali target del catodo
Metalli e leghe di transizione:
Titanio (Ti), cromo (Cr), zirconio (Zr), alluminio (Al), titanio-alluminio (TiAl 50/50, 33/67), tungsteno (W).


Non-metallici:Grafite (C) di elevata purezza-per strati di diamante-come carbonio (DLC) e carburo.


Substrati industriali
Acciai e carburi per utensili:Acciaio ad alta-rapidità (HSS), carburi cementati (WC-Co).


Leghe strutturali:Acciai inossidabili austenitici/martensitici, leghe di titanio (TC4), superleghe a base di nichel- (Inconel).

 

Applicazioni


Utensili da taglio di precisione:Deposizione di TiAlN e AlTiN su trapani, frese e creatori di ingranaggi per aumentare la durezza superficiale fino a 3300-3500 HV ed aumentare la resistenza all'ossidazione termica fino a 800 gradi.


Ingegneria automobilistica:Rivestimenti a basso-attrito e resistenti all'usura-su componenti di iniezione del carburante, fasce elastiche e punterie.


Stampi e matrici:Deposizione di nitruro di cromo (CrN) su stampi a iniezione di plastica per prevenire l'usura dell'adesivo, la micro-saldatura e l'adesione della resina.

 

Opzioni di personalizzazione


Dimensionamento della camera:Modifiche geometriche su misura per pannelli architettonici di grandi dimensioni o caroselli di piccoli utensili ad alta-rendimento.


Ibridazione della fonte:Integrazione di sorgenti di arco catodico con sputtering di magnetron sbilanciato (UBM) o catodi HiPIMS in un corpo unificato.


Interfacce di automazione:Integrazione MES di fabbrica tramite protocolli OPC-UA insieme a opzioni di portello di caricamento automatizzato.

 

Controllo qualità e test di fabbrica


Verifica della perdita di elio:Controllo perdite tramite spettrometro di massa eseguito su tutte le saldature e tenute sotto vuoto.


Verifica della sicurezza elettrica:Test di isolamento dell'alta tensione, controlli di continuità della messa a terra e verifica del circuito di arresto di emergenza-.


Test di burn-in di 72-ore:Ciclo continuo di funzionamento a secco-di azionamenti meccanici di rotazione, flussostati dell'acqua e sequenze di valvole PLC prima dello smontaggio.


Test di accettazione in fabbrica (FAT):Eseguito in loco-per convalidare i livelli di vuoto di base, la stabilità dell'innesco dell'arco e la distribuzione dello spessore di base sui coupon di calibrazione.

 

Installazione e supporto tecnico


Consegna dei requisiti della struttura:Detailed utility drawings specifying floor loading capacity, chilled water specifications (>= 0.3 MPa, 15-25 gradi), aspirazione dei gas di scarico e cadute di alimentazione (trifase, 380 V/480 V).


Messa in campo:Supervisione in-luogo da parte di ingegneri meccanici ed elettrici sul campo che si occupano di allineamento, collegamento e lotti di prova.


Formazione degli operatori:Istruzioni strutturate sulla configurazione della ricetta software, sulle procedure di scambio del target catodico e sulla manutenzione preventiva del vuoto.


Diagnostica remota:Gateway VPN industriale sicuro integrato nel pannello di controllo per telemetria software e supporto per la risoluzione dei problemi.

 

Domande frequenti

 

D: In che modo il sistema gestisce le microgocce (macroparticelle) comuni nei processi ad arco catodico non filtrato?

R: Le configurazioni standard utilizzano campi di guida elettromagnetici ottimizzati per controllare la velocità del punto dell'arco e ridurre al minimo l'emissione di goccioline. Per le applicazioni ottiche o a semiconduttore che richiedono livelli di difetti inferiori al-micron, è possibile integrare moduli di conduttura magnetica ad arco catodico filtrato (FCA) per intrappolare le macroparticelle neutre.

D: Qual è il tempo tipico di consegna per la sostituzione del target?

R: I catodi utilizzano design di bloccaggio meccanico-a rilascio rapido. Un operatore addestrato può eseguire una serie completa di sostituzioni di target entro 30 minuti senza rompere le guarnizioni strutturali della camera.

D: Il sistema può eseguire corse multistrato con gradiente automatizzato-senza l'intervento dell'operatore?

R: Sì. Il motore delle ricette PLC controlla le ricette multi-fase, gestendo automaticamente le transizioni nelle pressioni parziali del gas reattivo, la profilazione della polarizzazione del substrato e l'attivazione sequenziale dei canali di potenza-.

D: Quali sono gli esatti prerequisiti di utilità di base per la preparazione del sito?

A: The installation site must supply a closed-loop industrial chiller (15-30 kW cooling capacity), clean compressed air (>= 0.6 MPa), high-purity process gases (Ar, N2, C2H2 at >= 99.999% purezza) e alimentazione trifase industriale stabile.

 

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